DLA MIL-PRF-19500/752-2010
DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR, TRANSISTOR DE EFECTO DE CAMPO, CANAL N, ENDURECIDO POR RADIACIÓN (DOSIS TOTAL Y EFECTOS DE EVENTO ÚNICO), SILICIO DE NIVEL LÓGICO, TIPO 2N7608T2, JANTXVR, JANTXVF, JANSR Y JANSF

Estándar No.
DLA MIL-PRF-19500/752-2010
Fecha de publicación
2010
Organización
Defense Logistics Agency
 

Introducción
Este estándar establece especificaciones técnicas para ciertos tipos de dispositivos semiconductores, específicamente transistores de efecto de campo de canal N. Estos dispositivos están diseñados para resistir efectos de radiación, incluyendo la exposición a dosis totales y efectos de eventos únicos. El estándar abarca características eléctricas, condiciones de operación y requisitos de prueba. Se enfoca en la fabricación y el rendimiento de componentes de silicio de nivel lógico, utilizados en aplicaciones donde la exposición a radiación puede ser un factor crítico. La norma también incluye referencias a ciertos modelos y variantes de los dispositivos mencionados.

Temas especiales sobre estándares y normas

estándares y especificaciones

MIL MIL-PRF-19500/752-2010 Dispositivo semiconductor, transistor de efecto de campo, canal N, endurecido por radiación (dosis total y efectos de evento único), silicio de nivel lógico, tipo 2N7608T2, JANTXVR, JANTXVF, JANSR y JANSF MIL MIL-PRF-19500/752A-2017 Dispositivo semiconductor, transistor de efecto de campo, canal N, endurecido por radiación (dosis total y efectos de evento único), silicio de nivel lógico, tipo 2N7608T2, JANTXVR, JANTXVF, JANSR y JANSF MIL MIL-PRF-19500/741A-2009 Dispositivo semiconductor, efecto de campo, matriz de transistor endurecida por radiación (dosis total y efectos de evento único), canal N y canal P, silicio MIL MIL-PRF-19500/756A-2014 Transistor, endurecido por radiación de efecto de campo, canal N, silicio, montaje en superficie y orificio pasante, tipos 2N7606 y 2N7607 Niveles de calidad MIL MIL-PRF-19500/756-2010 Transistor, endurecido por radiación de efecto de campo, canal N, silicio, montaje en superficie y orificio pasante, tipos 2N7606 y 2N7607 Niveles de calidad MIL MIL-PRF-19500/746B-2011 Transistor, efecto de campo, endurecido por radiación, canal N, silicio, montaje en superficie, tipos 2N7587, 2N7589, 2N7591 y 2N7593, niveles de calidad JANTXV MIL MIL-PRF-19500/746A-2010 Transistor, efecto de campo, endurecido por radiación, canal N, silicio, montaje en superficie, tipos 2N7587, 2N7589, 2N7591 y 2N7593, niveles de calidad JANTXV MIL MIL-PRF-19500/746C-2014 Transistor, efecto de campo, endurecido por radiación, canal N, silicio, montaje en superficie, tipos 2N7587, 2N7589, 2N7591 y 2N7593, niveles de calidad JANTXV MIL MIL-PRF-19500/741B-2018 Dispositivo semiconductor, efecto de campo, matriz de transistor endurecida por radiación (dosis total y efectos de evento único), canal N y canal P, silicio



© 2025 Reservados todos los derechos.