SJ/T 10311-1992
Especificación genérica del sistema de deposición de vapor químico a baja presión. (Versión en inglés)

Estándar No.
SJ/T 10311-1992
Idiomas
Chino, Disponible en inglés
Fecha de publicación
1992
Organización
Professional Standard - Electron
Ultima versión
SJ/T 10311-1992
Alcance
Esta norma se aplica al diseño, fabricación y aplicación de procesos de equipos de deposición química de vapor de baja presión y pared caliente horizontal. También se debe utilizar como referencia el desarrollo de otras formas de equipos LPCVD.

SJ/T 10311-1992 Historia

  • 1992 SJ/T 10311-1992 Especificación genérica del sistema de deposición de vapor químico a baja presión.



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