Esta norma se aplica al diseño, fabricación y aplicación de procesos de equipos de deposición química de vapor de baja presión y pared caliente horizontal. También se debe utilizar como referencia el desarrollo de otras formas de equipos LPCVD.
SJ/T 10311-1992 Historia
1992SJ/T 10311-1992 Especificación genérica del sistema de deposición de vapor químico a baja presión.