T/CNIA 0061-2020 Determinación del contenido de impurezas en tetracloruro de silicio para epitaxia de silicio mediante espectrometría de masas con plasma acoplado inductivamente (Versión en inglés)
Esta norma especifica el contenido, los métodos de prueba y la forma del informe de prueba de las pruebas de rendimiento de los equipos de ultrafiltración.
T/CNIA 0061-2020 Historia
2020T/CNIA 0061-2020 Determinación del contenido de impurezas en tetracloruro de silicio para epitaxia de silicio mediante espectrometría de masas con plasma acoplado inductivamente