T/ICMTIA 5.3-2020
Litografía ArF FotoResistencia de medida para circuitos intergrados (Versión en inglés)

Estándar No.

T/ICMTIA 5.3-2020

Idiomas

Chino, Disponible en inglés

Fecha de publicación

2020

Organización

Group Standards of the People's Republic of China

Ultima versión

T/ICMTIA 5.3-2020

Alcance

Este documento especifica los requisitos y métodos de prueba de fotolitografía, los estándares de prueba, los requisitos de embalaje, transporte, almacenamiento y protección ambiental para el fotoprotector ArF.

T/ICMTIA 5.3-2020 Historia

• 2020 T/ICMTIA 5.3-2020 Litografía ArF FotoResistencia de medida para circuitos intergrados