ISO 21859:2019
Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para la resistencia al plasma de componentes cerámicos en equipos de fabricación de semiconductores.
- Estándar No.
- ISO 21859:2019
- Fecha de publicación
- 2019
- Organización
- International Organization for Standardization (ISO)
- Ultima versión
- ISO 21859:2019
- Alcance
- Este documento especifica un método de prueba para la resistencia al plasma de componentes cerámicos en equipos de fabricación de semiconductores. Es aplicable a componentes cerámicos de componentes resistentes al plasma en cámaras de grabado seco utilizadas en la fabricación de semiconductores.
ISO 21859:2019 Documento de referencia
- ISO 18452 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada) - Determinación del espesor de películas cerámicas mediante perfilómetro de sonda de contacto
- ISO 3274 Especificaciones geométricas de productos (GPS) - Textura de la superficie: Método del perfil - Características nominales de los instrumentos de contacto (stylus); Corrigendum técnico 1
- ISO 4287 Especificaciones Geométricas de Producto (GPS) - Textura superficial: Método del perfil - Términos, definiciones y parámetros de textura superficial; Corrigendum técnico 2
ISO 21859:2019 Historia
- 2019 ISO 21859:2019 Cerámica fina (cerámica avanzada, cerámica técnica avanzada): método de prueba para la resistencia al plasma de componentes cerámicos en equipos de fabricación de semiconductores.
