EN 62047-25:2016 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 25: Tecnología de fabricación MEMS basada en silicio - Método de medición de la resistencia a la tracción y al corte del área de microunión
European Committee for Electrotechnical Standardization（CENELEC）
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EN 62047-25:2016
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IEC 62047-25:2016 especifica el método de prueba in situ para medir la fuerza de unión del área de microunión que se fabrica mediante tecnologías de micromecanizado utilizadas en sistemas microelectromecánicos basados en silicio (MEMS). Este documento es aplicable a la medición in situ de la resistencia al corte y a la presión de tracción del área de microunión fabricada mediante un proceso de tecnología microelectrónica y otras tecnologías de micromecanizado.
EN 62047-25:2016 Historia
2016EN 62047-25:2016 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 25: Tecnología de fabricación MEMS basada en silicio - Método de medición de la resistencia a la tracción y al corte del área de microunión