DIN 50438-1:1995
Ensayos de materiales para tecnología de semiconductores. Determinación del contenido de impurezas en el silicio mediante absorción infrarroja. Parte 1: Oxígeno.

Estándar No.

DIN 50438-1:1995

Fecha de publicación

1995

Organización

German Institute for Standardization

Estado

Ultima versión

DIN 50438-1:1995

Alcance

Este documento especifica dos métodos para la determinación no destructiva del contenido de oxígeno en silicio mediante absorción infrarroja.

DIN 50438-1:1995 Historia

• 1995 DIN 50438-1:1995 Ensayos de materiales para tecnología de semiconductores. Determinación del contenido de impurezas en el silicio mediante absorción infrarroja. Parte 1: Oxígeno.