T/ICMTIA SM006-2021 Oblea epitaxial de silicio tipo P/P de 300 mm para proceso lógico de ancho de línea de circuito integrado de 65 nm-14 nm (Versión en inglés)
Este documento especifica los requisitos técnicos, métodos de prueba, reglas de inspección, marcado, embalaje, transporte, almacenamiento y certificados de calidad para obleas epitaxiales de silicio con un diámetro de 300 mm, tipo P/P y especificaciones de orientación de cristal (100). Este documento se aplica a obleas epitaxiales de silicio tipo P/P de 300 mm para procesos lógicos con anchos de línea de circuito integrado de 65 nm a 14 nm.
T/ICMTIA SM006-2021 Historia
2021T/ICMTIA SM006-2021 Oblea epitaxial de silicio tipo P/P de 300 mm para proceso lógico de ancho de línea de circuito integrado de 65 nm-14 nm