GB/T 6621-1995
(Versión en inglés)
- Estándar No.
- GB/T 6621-1995
- Idiomas
- Chino, Disponible en inglés
- Fecha de publicación
- 1995
- Organización
- General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
- Estado
- 2010-06
- Remplazado por
- GB/T 6621-2009
- Ultima versión
- GB/T 6621-2009
- Alcance
- Esta norma especifica el método para medir la rugosidad de la superficie de obleas pulidas de silicio mediante el fenómeno de interferencia de luz coherente. Este estándar es adecuado para probar la planitud de la superficie de obleas de silicio pulidas y también para probar la planitud de la superficie de obleas epitaxiales de silicio y obleas semiconductoras tipo espejo.
GB/T 6621-1995 Historia
- 2009 GB/T 6621-2009 Métodos de prueba para determinar la planitud de la superficie de rodajas de silicio.
- 1995 GB/T 6621-1995
