GB/T 17169-1997
Método de prueba para la calidad superficial de obleas de silicio pulidas y obleas epitaxiales mediante reflexión óptica. (Versión en inglés)

Estándar No.

GB/T 17169-1997

Idiomas

Chino, Disponible en inglés

Fecha de publicación

1997

Organización

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China

Estado

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Ultima versión

GB/T 17169-1997

Alcance

Esta norma especifica el método de inspección no destructivo por reflexión de la luz para defectos comunes en la superficie de obleas pulidas de silicio semiconductor y obleas epitaxiales. Esta norma se aplica a la inspección no destructiva de la calidad de la superficie de obleas epitaxiales y obleas pulidas de silicio semiconductor. Los resultados de las pruebas de este estándar son consistentes con los de GB/T6624 y GB/T14142.

GB/T 17169-1997 Historia

• 1997 GB/T 17169-1997 Método de prueba para la calidad superficial de obleas de silicio pulidas y obleas epitaxiales mediante reflexión óptica.