Esta práctica cubre los procedimientos dosimétricos que se deben seguir para determinar el rendimiento de instalaciones de procesamiento de radiación de haz de electrones de un solo paso de baja energía (300 keV o menos). También se analizan otras prácticas y procedimientos relacionados con la caracterización de instalaciones, la calificación de productos y el procesamiento de rutina. 2 El rango de energía de los electrones cubierto en esta práctica es de 80 keV a 300 keV. Dichos haces de electrones pueden generarse mediante aceleradores de fuente de plasma o filamentos térmicos autónomos de un solo espacio. 3 Esta norma no pretende abordar todos los problemas de seguridad, si los hay, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso.
BS ISO 15573:1998 Historia
0000 BS ISO 15573:1998(2000)
1999BS ISO 15573:1999 Práctica de dosimetría en una instalación de haz de electrones para procesamiento de radiación a energías entre 80 keV y 300 keV
1999BS ISO 15573:1998 Práctica de dosimetría en una instalación de haz de electrones para procesamiento de radiación a energías entre 80 keV y 300 keV