GB/T 17866-1999
Directriz para máscaras de defectos programadas y procedimientos de referencia para el análisis de sensibilidad de los sistemas de inspección de defectos de máscaras (Versión en inglés)

Estándar No.
GB/T 17866-1999
Idiomas
Chino, Disponible en inglés
Fecha de publicación
1999
Organización
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Ultima versión
GB/T 17866-1999
Alcance
El propósito de esta norma es desarrollar un conjunto de máscaras de prueba que puedan usarse para evaluar la sensibilidad de los sistemas de inspección de defectos de máscaras. Este conjunto de máscaras de prueba incluye: un chip de prueba con defectos de patrón personalizado y un chip de prueba de referencia sin defectos de patrón personalizado. Dado que el chip de prueba se compone de varias unidades, en esta norma, el chip de prueba se define por el patrón de las celdas, los defectos especialmente hechos en el patrón de las celdas y el diseño de las celdas. Además, la máscara de prueba se define especificando la disposición de los chips de prueba. Esta norma también describe el uso de este conjunto de mascarillas. En el pasado, en las pruebas de sensibilidad de equipos, muchos fabricantes y usuarios de equipos utilizaban máscaras diferentes, y cada fabricante y usuario decidía diferentes métodos de prueba. En algunos casos, todavía no existe un método de medición armonizado o un método de análisis de sensibilidad. Por lo tanto, al comparar la sensibilidad de equipos de varios fabricantes, cuando los fabricantes y los usuarios acuerdan las especificaciones, y cuando los usuarios y los usuarios acuerdan las especificaciones, inevitablemente se producirá confusión. Por lo tanto, al evaluar la sensibilidad del sistema de inspección de defectos de la máscara, es mejor utilizar la máscara de prueba especificada en esta norma.

GB/T 17866-1999 Historia

  • 1999 GB/T 17866-1999 Directriz para máscaras de defectos programadas y procedimientos de referencia para el análisis de sensibilidad de los sistemas de inspección de defectos de máscaras



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