YS/T 666-2008
Métodos de análisis químico de galio para uso industrial. Determinación de elementos de impureza. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente. (Versión en inglés)

Estándar No.
YS/T 666-2008
Idiomas
Chino, Disponible en inglés
Fecha de publicación
2008
Organización
Professional Standard - Non-ferrous Metal
Ultima versión
YS/T 666-2008
 
Alcance
Esta norma especifica métodos para la determinación del contenido de silicio, sodio, potasio, magnesio, calcio y aluminio en el galio industrial. Esta norma es aplicable a la determinación del contenido de silicio, sodio, potasio, magnesio, calcio y aluminio en galio industrial [99,9%≤ω(%)≤99,995%]. El rango de medición se muestra en la Tabla 1.

YS/T 666-2008 Historia

  • 2008 YS/T 666-2008 Métodos de análisis químico de galio para uso industrial. Determinación de elementos de impureza. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
Métodos de análisis químico de galio para uso industrial. Determinación de elementos de impureza. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.

Temas especiales sobre estándares y normas

Elementos de impureza Elementos de impureza impurezas elementales impurezas elementales plasma espectral elementos de análisis químico Análisis químicos industriales

estándares y especificaciones

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