ISO/TTA 4:2002
Medición de la conductividad térmica de películas delgadas sobre sustratos de silicio.

Estándar No.

ISO/TTA 4:2002

Fecha de publicación

2002

Organización

International Organization for Standardization (ISO)

Ultima versión

ISO/TTA 4:2002

Alcance

1.1 Se propone un procedimiento estándar para el método de los tres omega para medir la conductividad térmica de una película delgada eléctricamente aislante, sobre un sustrato que tiene una conductividad térmica significativamente mayor que la conductividad térmica de la película. Este método es aplicable a una película sobre un sustrato de silicio con las siguientes características: a) la película es eléctricamente aislante; b) la película tiene una conductividad térmica inferior a una décima parte de la conductividad térmica del silicio; c) la película tiene un espesor uniforme y el espesor está comprendido entre 0,25 µm y 1 µm; d) las dimensiones máximas de la película están limitadas por los tamaños del aparato de preparación y medición; e) las dimensiones mínimas de la película están limitadas por el tamaño mínimo del elemento del circuito que se puede colocar sobre la superficie de la película. NOTA Una muestra de aproximadamente 15 mm por 25 mm es de un tamaño apropiado, aunque se pueden utilizar muestras tan pequeñas como 10 mm × 10 mm. 1.2 El método es directamente aplicable a películas de dióxido de silicio sobre sustratos de obleas de silicio. 1.3 El método puede ser aplicable a películas aislantes sobre otros sustratos de alta conductividad térmica siempre que los parámetros del material del sustrato se sustituyan por los parámetros del silicio utilizado en este método y el programa informático asociado. 1.4 El método es aplicable a mediciones cercanas a la temperatura ambiente.

ISO/TTA 4:2002 Historia

• 2002 ISO/TTA 4:2002 Medición de la conductividad térmica de películas delgadas sobre sustratos de silicio.