GB/T 24583.8-2009
Aleación de vanadio-nitrógeno. Determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente. (Versión en inglés)

Estándar No.
GB/T 24583.8-2009
Idiomas
Chino, Disponible en inglés
Fecha de publicación
2009
Organización
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Estado
 2020-05
Remplazado por
GB/T 24583.8-2019
Ultima versión
GB/T 24583.8-2019
 

Alcance
Esta parte de GB/T 24583 especifica la determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio mediante espectrometría de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente. Esta parte es aplicable a la determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio en una aleación de nitrógeno y vanadio. Rango de medición (fracción de masa): silicio: 0,010% a 1,00%; manganeso: 0,010% a 0,500%; fósforo: 0,010% a 0,500%; aluminio 0,010% a 1,00%.

GB/T 24583.8-2009 Documento de referencia

  • GB/T 12806-1991 Material de vidrio de laboratorio: matraces aforados de una marca
  • GB/T 12807-1991 Material de vidrio de laboratorio--Pipetas graduadas
  • GB/T 12808-1991 Material de vidrio de laboratorio. Pipetas de una marca.
  • GB/T 4010 Muestreo de Ferroallys y preparación de muestras para análisis químicos.*2015-09-11 Actualizar
  • GB/T 6682-2008 Agua para uso en laboratorio analítico. Especificación y métodos de prueba.

GB/T 24583.8-2009 Historia

  • 2019 GB/T 24583.8-2019 Nitrógeno de vanadio. Determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
  • 2009 GB/T 24583.8-2009 Aleación de vanadio-nitrógeno. Determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.
Aleación de vanadio-nitrógeno. Determinación del contenido de silicio, manganeso, fósforo y aluminio. Método espectrométrico de emisión atómica de plasma acoplado inductivamente.

Temas especiales sobre estándares y normas

estándares y especificaciones

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