YS/T 719-2009
Objetivo de pulverización catódica magnético plano. Objetivo de silicio para recubrimiento óptico (Versión en inglés)

Estándar No.

YS/T 719-2009

Idiomas

Chino, Disponible en inglés

Fecha de publicación

2009

Organización

Professional Standard - Non-ferrous Metal

Ultima versión

YS/T 719-2009

Alcance

Esta norma especifica los requisitos, métodos de prueba, reglas de inspección, marcado, embalaje, transporte, almacenamiento y contenido del formulario de pedido (contrato) para objetivos de silicio utilizados para películas ópticas de pulverización catódica con magnetrón plano. Esta norma se aplica a objetivos de silicio para pulverización catódica con magnetrón plano de películas ópticas delgadas.

YS/T 719-2009 Documento de referencia

• GB/T 12963-2009 Especificación para silicio policristalino.
• GB/T 1551-2009 Método de prueba para medir la resistividad del silicio monocristal.
• GB/T 2040-2008 Hoja de cobre y aleación de cobre.
• GB/T 5231-2001 Límites de composición química del cobre forjado y aleaciones de cobre y formas de productos forjados.

YS/T 719-2009 Historia

• 2009 YS/T 719-2009 Objetivo de pulverización catódica magnético plano. Objetivo de silicio para recubrimiento óptico