1.1 Esta especificación cubre el metal de aluminio puro (sin alear) para su uso en fuentes de evaporación y objetivos de pulverización catódica. Este material está pensado como materia prima para aplicaciones electrónicas. En algunos casos, el material se utiliza tal como se suministra (por ejemplo, como fuentes de evaporación de haces de electrones). En otros casos, el comprador puede refundirlo, alearlo, fundirlo y procesarlo para fabricar productos terminados (por ejemplo, objetivos de pulverización catódica). 1.2 Esta especificación establece niveles de grado de pureza, atributos físicos, métodos analíticos y empaque. 1.3 Los valores indicados en unidades SI deben considerarse estándar. No se incluyen otras unidades de medida en esta norma.
ASTM F1513-99(2011) Documento de referencia
ASTM D1971 Prácticas estándar para la digestión de muestras de agua para la determinación de metales mediante absorción atómica de llama, absorción atómica en horno de grafito, espectroscopia de emisión de plasma o espectrometría de masas de plasma*, 2002-03-10 Actualizar
ASTM F1513-99(2011) Historia
1999ASTM F1513-99(2011) Especificación estándar para material fuente de aluminio puro (sin alear) para aplicaciones electrónicas de película delgada
1999ASTM F1513-99(2003) Especificación estándar para material fuente de aluminio puro (sin alear) para aplicaciones electrónicas de película delgada
1999ASTM F1513-99 Especificación estándar para material fuente de aluminio puro (sin alear) para aplicaciones electrónicas de película delgada