LST EN 62047-14-2012
Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 14: Método de medición del límite de formación de materiales de película metálica (IEC 62047-14:2012).

Estándar No.

LST EN 62047-14-2012

Fecha de publicación

2012

Organización

Lithuanian Standards Office

Ultima versión

LST EN 62047-14-2012

LST EN 62047-14-2012 Historia

• 2012 LST EN 62047-14-2012 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 14: Método de medición del límite de formación de materiales de película metálica (IEC 62047-14:2012).