DS/EN 62047-14:2012
Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 14: Método de medición del límite de formación de materiales de película metálica.

Estándar No.

DS/EN 62047-14:2012

Fecha de publicación

2012

Organización

Danish Standards Foundation

Ultima versión

DS/EN 62047-14:2012

Alcance

IEC 62047-14:2012 describe definiciones y procedimientos para medir el límite de formación de materiales de película metálica con un rango de espesor de 0,5 μm a 300 μm. Los materiales de película metálica descritos en este documento se utilizan normalmente en componentes eléctricos, MEMS y

DS/EN 62047-14:2012 Historia

• 2012 DS/EN 62047-14:2012 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 14: Método de medición del límite de formación de materiales de película metálica.