KS C 6521-2008
Método de evaluación de componentes de recubrimiento de semiconductores y procesos LCD.

Estándar No.

KS C 6521-2008

Fecha de publicación

2008

Organización

Korean Agency for Technology and Standards (KATS)

Estado

Remplazado por

KS C 6521-2019

Ultima versión

KS C 6521-2021

Alcance

Esta norma cubre el grabado durante el procesamiento o recubrimiento de semiconductores/LCD dentro de equipos de proceso de deposición química de vapor (CVD).

KS C 6521-2008 Historia

• 2021 KS C 6521-2021 Método de evaluación de componentes de recubrimiento de semiconductores y procesos LCD.
• 2019 KS C 6521-2019 Método de evaluación de componentes de recubrimiento de semiconductores y procesos LCD.
• 2008 KS C 6521-2008 Método de evaluación de componentes de recubrimiento de semiconductores y procesos LCD.