GB/T 14145-1993 Determinación de la densidad de fallas de apilamiento de la capa epitaxial de silicio mediante microscopía de contraste de fase de interferencia (Versión en inglés)
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Estado
Ultima versión
GB/T 14145-1993
Alcance
Esta norma especifica el método para la medición no destructiva de la densidad de fallas de apilamiento de capas epitaxiales de silicio utilizando un microscopio de contraste de fase de interferencia. Esta norma es aplicable a la medición de la densidad de fallas de apilamiento de muestras cuyo espesor de la capa epitaxial de silicio no es inferior a 3 μm, y la orientación cristalina de la capa epitaxial se desvía del plano cristalino {111} o del plano cristalino {100} con un pequeño ángulo. Cuando la densidad de fallas de apilamiento excede los 15000 cm-2 o cuando la orientación del cristal de la capa epitaxial se desvía del plano cristalino {111} o del plano cristalino {100}, la precisión de la medición se reducirá.
GB/T 14145-1993 Historia
1993GB/T 14145-1993 Determinación de la densidad de fallas de apilamiento de la capa epitaxial de silicio mediante microscopía de contraste de fase de interferencia