GB/T 13388-1992
Método para medir la orientación cristalográfica de planos en láminas y obleas de silicio monocristalino mediante técnicas de rayos X. (Versión en inglés)

Estándar No.
GB/T 13388-1992
Idiomas
Chino, Disponible en inglés
Fecha de publicación
1992
Organización
General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Estado
 2010-06
Remplazado por
GB/T 13388-2009
Ultima versión
GB/T 13388-2009
Alcance
Esta norma especifica el método para medir la orientación cristalográfica del plano de referencia de obleas de silicio mediante tecnología de rayos X. Esta norma es aplicable a la medición de la desviación angular entre la orientación cristalográfica del plano de referencia de la oblea de silicio y la orientación especificada del plano de referencia. El diámetro de la oblea de silicio es de 50 a 125 mm y la longitud de la superficie de referencia es de 10 a 50 mm. Esta norma no se aplica a la medición de obleas de silicio cuya orientación especificada está en un plano perpendicular al plano de referencia y a la superficie de la oblea de silicio, y al ángulo entre la proyección de la superficie de la oblea de silicio y la línea normal de la oblea de silicio. superficie no sea inferior a 3°.

GB/T 13388-1992 Historia

  • 2009 GB/T 13388-2009 Método para medir la orientación cristalográfica de planos en rodajas y obleas de silicio monocristalino mediante técnicas de rayos X.
  • 1992 GB/T 13388-1992 Método para medir la orientación cristalográfica de planos en láminas y obleas de silicio monocristalino mediante técnicas de rayos X.



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