BS EN 62047-25:2016
Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Tecnología de fabricación MEMS basada en silicio. Método de medición de la fuerza de tracción y corte del área de microunión

Estándar No.
BS EN 62047-25:2016
Fecha de publicación
2016
Organización
British Standards Institution (BSI)
Ultima versión
BS EN 62047-25:2016

BS EN 62047-25:2016 Documento de referencia

  • EN 62047-1 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 1: Términos y definiciones.
  • EN ISO 10012 Sistemas de gestión de mediciones Requisitos para procesos de medición y equipos de medición ISO 10012:2003; Reemplaza EN 30012-1:1993
  • IEC 62047-1 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 1: Términos y definiciones.
  • ISO 10012 Sistemas de gestión de mediciones: requisitos para procesos de medición y equipos de medición.

BS EN 62047-25:2016 Historia

  • 2016 BS EN 62047-25:2016 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Tecnología de fabricación MEMS basada en silicio. Método de medición de la fuerza de tracción y corte del área de microunión



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