BS EN 62047-25:2016 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Tecnología de fabricación MEMS basada en silicio. Método de medición de la fuerza de tracción y corte del área de microunión
EN 62047-1 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 1: Términos y definiciones.
EN ISO 10012 Sistemas de gestión de mediciones Requisitos para procesos de medición y equipos de medición ISO 10012:2003; Reemplaza EN 30012-1:1993
IEC 62047-1 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Parte 1: Términos y definiciones.
ISO 10012 Sistemas de gestión de mediciones: requisitos para procesos de medición y equipos de medición.
BS EN 62047-25:2016 Historia
2016BS EN 62047-25:2016 Dispositivos semiconductores. Dispositivos microelectromecánicos. Tecnología de fabricación MEMS basada en silicio. Método de medición de la fuerza de tracción y corte del área de microunión