ASTM F2113-01
Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada

Estándar No.

ASTM F2113-01

Fecha de publicación

2001

Organización

American Society for Testing and Materials (ASTM)

Estado

Remplazado por

ASTM F2113-01e1

Ultima versión

ASTM F2113-01(2011)

Alcance

1.1 Esta guía cubre objetivos de pulverización catódica utilizados como material fuente de película delgada en la fabricación de dispositivos electrónicos semiconductores. Debería usarse para desarrollar especificaciones de objetivos para materiales específicos y se debe hacer referencia en ellos.1.2 Esta norma establece niveles de grado de pureza, métodos analíticos y métodos de informe del contenido de impurezas. y formato.1.2.1 La designación del grado es una medida del contenido total de impurezas metálicas.La designación del grado no necesariamente indica la idoneidad para una aplicación en particular porque otros factores además de la impureza metálica total pueden influir en el rendimiento.

ASTM F2113-01 Historia

• 2001 ASTM F2113-01(2011) Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
• 2007 ASTM F2113-01(2007) Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
• 2001 ASTM F2113-01e1 Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
• 2001 ASTM F2113-01 Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada