ASTM F2113-01e1
Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada

Estándar No.

ASTM F2113-01e1

Fecha de publicación

2001

Organización

American Society for Testing and Materials (ASTM)

Estado

Remplazado por

ASTM F2113-01(2007)

Ultima versión

ASTM F2113-01(2011)

Alcance

1.1 Esta guía cubre los objetivos de pulverización catódica utilizados como material fuente de película delgada en la fabricación de dispositivos electrónicos semiconductores. Debe usarse para desarrollar especificaciones objetivo para materiales específicos y debe mencionarse en ellos.1.2 Esta norma establece niveles de grado de pureza, métodos analíticos y método y formato para informar el contenido de impurezas.1.2.1 La designación de grado es una medida del contenido total de impurezas metálicas. La designación del grado no indica necesariamente la idoneidad para una aplicación particular porque otros factores además de la impureza metálica total pueden influir en el rendimiento.

ASTM F2113-01e1 Historia

• 2001 ASTM F2113-01(2011) Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
• 2007 ASTM F2113-01(2007) Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
• 2001 ASTM F2113-01e1 Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada
• 2001 ASTM F2113-01 Guía estándar para analizar e informar el contenido de impurezas y el grado de objetivos de pulverización catódica metálica de alta pureza para aplicaciones electrónicas de película delgada