Es una práctica estándar utilizar fuentes de deposición por pulverización catódica de magnetrón en la fabricación de medios de almacenamiento de datos magnéticos de película delgada. Pero un objetivo de farfulla ferromagnético tiende a desviar un cátodo de farfulla; campo magnético, reduciendo así la eficiencia del proceso de pulverización catódica. Los fabricantes de objetivos de pulverización catódica han desarrollado diversos medios para controlar la microestructura de la aleación para minimizar el efecto indeseable de derivación del cátodo. Sin embargo, debido a sus diferentes métodos de fabricación, los objetivos de un proveedor pueden tener propiedades magnéticas significativamente mejores o peores que las de otro, incluso cuando las composiciones de aleaciones sean las mismas. Este método de prueba permite comparar el poder de derivación magnética de objetivos magnéticos bajo una condición de prueba estándar. Los resultados son útiles para engañar a los proveedores y compradores objetivo al predecir el desempeño objetivo, especificar la calidad objetivo y calificar los envíos objetivo entrantes. Esta prueba también puede ser útil para cuantificar los esfuerzos de mejora objetivo. Los pasos del proceso de fabricación que reducen la permeabilidad magnética del material objetivo tienden a aumentar el PTF y viceversa. En principio, sería posible predecir el PTF acumulando suficientes datos de permeabilidad y conociendo el espesor del objetivo y la intensidad del campo del conjunto magnético utilizado para la pulverización catódica con magnetrón. 1.1 Este método de prueba cubre la medición del campo magnético de CC transmitido a través de un objetivo de pulverización ferromagnética. ("paso a través de flujo" o "PTF"). En este método de prueba, el campo magnético fuente está en la dirección circunferencial del objetivo de prueba. 1.2 Objetivos planos en forma de disco en el rango de diámetro de 5 a 8 pulgadas inclusive (125 a 205 mm inclusive) y de espesor de 0,1 a 0,5 pulgadas inclusive (2,5 a 13 mm) pueden caracterizarse mediante este procedimiento. 1.3 Este método de prueba también es aplicable a objetivos que tienen un centro abierto, por ejemplo, a objetivos de 5 pulgadas. diámetro exterior por 2,5 pulgadas. diámetro interior por 0,25 pulgadas. de espesor (127 mm de diámetro exterior por 63,5 mm de diámetro interior por 6,35 mm de espesor). 1.4 Los objetivos de diversos diámetros y espesores se acomodan mediante dispositivos adecuados para alinear la pieza bajo prueba con el imán fuente montado en el dispositivo de prueba. En este procedimiento se especifican las herramientas que cubren varios diseños de objetivos populares. Se pueden probar configuraciones de objetivos adicionales proporcionando herramientas especiales. Cuando se utilizan accesorios especiales, todas las partes involucradas en la prueba deben aceptar la configuración de la prueba. 1.5 Los valores indicados en unidades de pulgada-libra deben considerarse como estándar. Los valores dados entre paréntesis son solo para información. 1.6 Esta norma no pretende abordar todos los problemas de seguridad, si los hay, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso.
ASTM F1761-00(2005) Historia
2000ASTM F1761-00(2011) Método de prueba estándar para el paso del flujo de objetivos de pulverización magnética circular
2000ASTM F1761-00(2005) Método de prueba estándar para el paso del flujo de objetivos de pulverización magnética circular
2000ASTM F1761-00 Método de prueba estándar para el paso del flujo de objetivos de pulverización magnética circular