1.1 Este método de prueba describe la técnica para contar la densidad de defectos superficiales en obleas de silicio mediante análisis microscópico. Nota 1. El uso práctico de un método de recuento de defectos requiere asumir que los defectos se distribuyen aleatoriamente en la superficie. Si no se cumple esta suposición, la exactitud y precisión de este método de prueba disminuirán. 1.2 La aplicación de este método de prueba se limita a muestras que tienen artefactos discretos e identificables en la superficie de la muestra de silicio. Las muestras típicas se han grabado preferentemente según la Guía F 1809 o se han depositado epitaxialmente, formando defectos en la estructura de la capa de silicio. 1.3 El espesor y diámetro de la oblea para este método de prueba está limitado únicamente por el rango o los movimientos de la platina del microscopio disponibles. 1.4 Este método de prueba es aplicable a obleas de silicio con una densidad de defectos entre 0,01 y 10 000 defectos por cm2. Nota 2: El rango de densidad de defectos comercialmente significativo está entre 0,01 y 10 defectos por cm2, pero este método de prueba se extiende a niveles de defectos más altos debido al muestreo estadístico mejorado obtenido con recuentos más altos. 1.5 Esta norma no pretende abordar todos los problemas de seguridad, si los hay, asociados con su uso. Es responsabilidad del usuario de esta norma establecer prácticas apropiadas de seguridad y salud y determinar la aplicabilidad de las limitaciones reglamentarias antes de su uso.