MIL MIL-PRF-19500/639A-1998
DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR, TRANSISTOR ENDURECIDO POR RADIACIÓN DE EFECTO DE CAMPO (DOSIS TOTAL Y EFECTOS DE EVENTO ÚNICO), SILICIO DE CANAL P TIPO 2N7411 JANSD Y JANSR (SUPERDIENDO A MIL-S-19500/639)

Estándar No.
MIL MIL-PRF-19500/639A-1998
Fecha de publicación
1998
Organización
Military Standards (MIL-STD)
Ultima versión
MIL MIL-PRF-19500/639A-1998
 

Introducción
El documento titulado "Semiconductor Devices Field Effect Radiation Hardened (Total Dose and Single Event Effects) Transistors P-Channel Silicon Type 2N7411 JANSD and JANSR (Replaces MIL-S-19500/639)" fue publicado por el Departamento de Defensa de los Estados Unidos. Este estándar, identificado como MIL-PRF-19500/639A-1998, fue lanzado el 24 de marzo de 1998. El documento establece las especificaciones para transistores de efecto de campo resistentes a la radiación, específicamente para los tipos P-Channel de silicio 2N7411, bajo las designaciones JANSD y JANSR, reemplazando el estándar anterior MIL-S-19500/639.

MIL MIL-PRF-19500/639A-1998 Historia

  • 1998 MIL MIL-PRF-19500/639A-1998 DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR, TRANSISTOR ENDURECIDO POR RADIACIÓN DE EFECTO DE CAMPO (DOSIS TOTAL Y EFECTOS DE EVENTO ÚNICO), SILICIO DE CANAL P TIPO 2N7411 JANSD Y JANSR (SUPERDIENDO A MIL-S-19500/639)
  • 1996 MIL MIL-PRF-19500/639-1996 DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR, TRANSISTOR ENDURECIDO POR RADIACIÓN DE EFECTO DE CAMPO (DOSIS TOTAL Y EFECTOS DE EVENTO ÚNICO), TIPO DE SILICIO DE CANAL P 2N7411 JANTXD, -R, JANTXVD, -R, Y JANSD, -R (S/S POR MIL-PRF-19500/639A )

estándares y especificaciones

MIL MIL-PRF-19500/741B-2018 Dispositivo semiconductor, efecto de campo, matriz de transistor endurecida por radiación (dosis total y efectos de evento único), canal N y canal P, silicio MIL MIL-PRF-19500/741A-2009 Dispositivo semiconductor, efecto de campo, matriz de transistor endurecida por radiación (dosis total y efectos de evento único), canal N y canal P, silicio MIL MIL-PRF-19500/713B-2010 DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR, TRANSISTORES ENDURECIDOS POR RADIACIÓN DE EFECTO DE CAMPO (DOSIS TOTAL Y EFECTOS DE EVENTO ÚNICO), CANAL P, SILICIO, TIPOS 2N7549T1 MIL MIL-PRF-19500/713C-2013 DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR, TRANSISTORES ENDURECIDOS POR RADIACIÓN DE EFECTO DE CAMPO (DOSIS TOTAL Y EFECTOS DE EVENTO ÚNICO), CANAL P, SILICIO, TIPOS 2N7549T1 MIL MIL-PRF-19500/713D-2015 DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR, TRANSISTORES ENDURECIDOS POR RADIACIÓN DE EFECTO DE CAMPO (DOSIS TOTAL Y EFECTOS DE EVENTO ÚNICO), CANAL P, SILICIO, TIPOS 2N7549T1 MIL MIL-PRF-19500/633D-2013 Dispositivo semiconductor, transistores endurecidos por radiación de efecto de campo, silicio de canal P, tipos 2N7403 y 2N7404, JANSD y JANSR MIL MIL-PRF-19500/683B-2004 DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR, TRANSISTOR, EFECTO DE CAMPO, CANAL N, ENDURECIDO POR RADIACIÓN (DOSIS TOTAL Y EFECTOS DE UN SOLO EVENTO) TIPO 2N7467U2, JANTXVR, F, G MIL MIL-PRF-19500/684-2000 DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR, TRANSISTOR, EFECTO DE CAMPO, SILICIO, CANAL N, ENDURECIDO POR RADIACIÓN (DOSIS TOTAL Y EFECTOS DE EVENTO ÚNICO) TIPOS 2N7472U2 MIL MIL-PRF-19500/684B-2004 DISPOSITIVO SEMICONDUCTOR, TRANSISTOR, EFECTO DE CAMPO, SILICIO, CANAL N, ENDURECIDO POR RADIACIÓN (DOSIS TOTAL Y EFECTOS DE EVENTO ÚNICO), TIPOS 2N7472U2



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