GB/T 17865-1999
Especificación para medir la profundidad de enfoque y el mejor enfoque (Versión en inglés)

Estándar No.

GB/T 17865-1999

Idiomas

Chino, Disponible en inglés

Fecha de publicación

1999

Organización

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China

Ultima versión

GB/T 17865-1999

Alcance

El proceso de fabricación de litografía y fotomáscaras en la industria de circuitos integrados requiere el desarrollo de equipos de litografía de circuitos integrados, como generadores de patrones ópticos, compactadores de paso y repetición, máquinas de litografía de proyección de paso y repetición, sistemas de exposición por escaneo, etc. (en adelante denominados equipo) Se miden y reportan la profundidad de enfoque, el astigmatismo y la distorsión de campo, y este estándar explica sus términos comúnmente utilizados y las técnicas básicas utilizadas. Esta norma solo trata del enfoque y la medición de la profundidad de foco para fotolitografía y sus tecnologías estrechamente relacionadas utilizadas en la producción de circuitos integrados. Debido a la gran variedad de tecnologías de equipos, no es posible proponer mediciones definitivas de estos parámetros. Esta norma proporciona únicamente pautas básicas. NOTA: Este método es valioso para determinar el mejor punto focal para una aplicación. Pero su objetivo principal es comparar diferentes equipos y procesos determinando la profundidad de foco, el astigmatismo y la distorsión de campo. Para un dispositivo específico, la determinación de los valores de profundidad focal, astigmatismo y distorsión de campo es inseparable de la influencia de la geometría de la imagen y el proceso de transferencia de la imagen. Estos valores deben determinarse bajo diversas restricciones apropiadas para el uso real del dispositivo, incluida la iluminación, la mano de obra, los gráficos de los objetos y el entorno. Por lo tanto, para medir imparcialmente el rendimiento de un dispositivo, el proceso utilizado debe ser adecuado para el dispositivo correspondiente y las condiciones de uso, y debe optimizarse para el dispositivo y el proceso de aplicación correspondientes. Una comparación del rendimiento de dos dispositivos diferentes es esencialmente una comparación de aplicaciones integrales, incluido el proceso específico del dispositivo. Las descripciones de los procesos son una parte integral de los informes sobre mediciones de profundidad de enfoque, astigmatismo o distorsión de campo. Si los datos referenciados se obtienen de una situación que se desvía demasiado de las condiciones de aplicación requeridas por el equipo correspondiente, dichos datos introducirán errores y también pueden causar fallas inesperadas en el proceso.

GB/T 17865-1999 Historia

• 1999 GB/T 17865-1999 Especificación para medir la profundidad de enfoque y el mejor enfoque