ISO 16531:2020
Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Métodos para la alineación del haz de iones y la medición asociada de la corriente o la densidad de corriente para el perfilado de profundidad en AES y XPS.

Estándar No.
ISO 16531:2020
Fecha de publicación
2020
Organización
International Organization for Standardization (ISO)
Ultima versión
ISO 16531:2020
 

Alcance
Este documento especifica métodos para la alineación del haz de iones para garantizar una buena resolución de profundidad en el perfilado de profundidad de pulverización catódica y una limpieza óptima de superficies cuando se utilizan iones de gas inerte en espectroscopia de electrones Auger (AES) y espectroscopia de fotoelectrones de rayos X (XPS). Estos métodos son de dos tipos: uno implica una copa de Faraday para medir la corriente iónica; el otro involucra métodos de imagen. El método de la copa de Faraday también especifica las mediciones de la densidad de corriente y las distribuciones de corriente en haces de iones. Los métodos son aplicables para pistolas de iones con haces con un tamaño de punto menor o igual a 1 mm de diámetro. Los métodos no incluyen optimización de la resolución de profundidad.

ISO 16531:2020 Documento de referencia

  • ISO 18115-1 Análisis químico de superficies. Vocabulario. Parte 1: Términos generales y términos utilizados en espectroscopia.*2023-06-01 Actualizar

ISO 16531:2020 Historia

  • 2020 ISO 16531:2020 Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Métodos para la alineación del haz de iones y la medición asociada de la corriente o la densidad de corriente para el perfilado de profundidad en AES y XPS.
  • 2013 ISO 16531:2013 Análisis químico de superficies - Perfilado de profundidad - Métodos para la alineación del haz de iones y la medición asociada de la corriente o densidad de corriente para el perfilado de profundidad en AES y XPS
Análisis químico de superficies. Perfilado de profundidad. Métodos para la alineación del haz de iones y la medición asociada de la corriente o la densidad de corriente para el perfilado de profundidad en AES y XPS.

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