GSO IEC 62047-2:2014 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 2: Método de prueba de tracción de materiales de película delgada
Esta norma internacional especifica el método para ensayos de tracción de materiales de película delgada con una longitud y ancho inferiores a 1 mm y un espesor inferior a 10 µm, que son los principales materiales estructurales para sistemas microelectromecánicos (MEMS), micromáquinas y dispositivos similares. Los principales materiales estructurales para MEMS, micromáquinas y dispositivos similares tienen características especiales, como dimensiones típicas del orden de unas pocas micras, una fabricación del material por deposición y una fabricación de la pieza de prueba mediante mecanizado no mecánico mediante grabado y fotolitografía. Esta norma internacional especifica el método de prueba, que permite garantizar la precisión correspondiente a las características especiales.
GSO IEC 62047-2:2014 Historia
2014GSO IEC 62047-2:2014 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 2: Método de prueba de tracción de materiales de película delgada