IEC 62047-2:2006
Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 2: Método de prueba de tracción de materiales de película delgada

Estándar No.
IEC 62047-2:2006
Fecha de publicación
2006
Organización
International Electrotechnical Commission (IEC)
Ultima versión
IEC 62047-2:2006
Reemplazar
IEC 47/1865/FDIS:2006
Alcance
Esta norma internacional especifica el método para ensayos de tracción de materiales de película delgada con una longitud y ancho inferiores a 1 mm y un espesor inferior a 10 µm, que son los principales materiales estructurales para sistemas microelectromecánicos (MEMS), micromáquinas y dispositivos similares. Los principales materiales estructurales para MEMS, micromáquinas y dispositivos similares tienen características especiales, como dimensiones típicas del orden de unas pocas micras, una fabricación del material por deposición y una fabricación de la pieza de prueba mediante mecanizado no mecánico mediante grabado y fotolitografía. Esta norma internacional especifica el método de prueba, que permite garantizar la precisión correspondiente a las características especiales.

IEC 62047-2:2006 Historia

  • 2006 IEC 62047-2:2006 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 2: Método de prueba de tracción de materiales de película delgada



© 2023 Reservados todos los derechos.