DS/EN 62047-2:2007 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 2: Método de prueba de tracción de materiales de película delgada
Esta norma internacional especifica el método para ensayos de tracción de materiales de película delgada con una longitud y un ancho inferiores a 1 mm y un espesor inferior a 10 ìm, que son los principales materiales estructurales para sistemas microelectromecánicos (MEMS), micromáquinas y dispositivos similares. Los principales materiales estructurales para Los MEMS, las micromáquinas y dispositivos similares tienen características especiales, como dimensiones típicas del orden de unas pocas micras, una fabricación del material por deposición y una fabricación de la pieza de prueba mediante mecanizado no mecánico mediante grabado y fotolitografía. Esta norma internacional especifica el método de prueba, que permite una garantía de precisión correspondiente a t
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2007DS/EN 62047-2:2007 Dispositivos semiconductores - Dispositivos microelectromecánicos - Parte 2: Método de prueba de tracción de materiales de película delgada