JIS K 0143:2000
Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
- Estándar No.
- JIS K 0143:2000
- Fecha de publicación
- 2000
- Organización
- Japanese Industrial Standards Committee (JISC)
- Estado
- 2023-02
- Remplazado por
- JIS K 0143:2023
- Ultima versión
- JIS K 0143:2023
- Alcance
- Este estándar especifica un método de espectrometría de masas de iones secundarios para determinar la concentración atómica de boro en silicio monocristalino utilizando una muestra dopada uniformemente calibrada con una muestra estándar certificada preparada mediante la implantación de boro. Este método se utiliza para determinar la concentración de boro añadido uniformemente en el rango de concentración de 1 x 10 átomos/cm a 1 x 10 átomos/cm.
JIS K 0143:2000 Historia
- 2023 JIS K 0143:2023 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
- 2000 JIS K 0143:2000 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
estándares y especificaciones
ISO 14237:2000 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
ISO 14237:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
GSO ISO 14237:2013 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
AS ISO 14237:2006 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
BS ISO 14237:2000 Análisis químico de superficies. Espectrometría de masas de iones secundarios. Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente.
BS ISO 14237:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
KS D ISO 14237:2003 Análisis químico de superficies－Espectrometría de masas de iones secundarios－Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
JIS K 0143:2023 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente
NF X21-070*NF ISO 14237:2010 Análisis químico de superficies - Espectrometría de masas de iones secundarios - Determinación de la concentración atómica de boro en silicio utilizando materiales dopados uniformemente.